Process and Device Simulation for MOS-VLSI Circuits: NATO Science Series E:, cartea 62
Editat de P. Antognetti, D.A. Antoniadis, Robert W. Dutton, W.G. Oldhamen Limba Engleză Paperback – 9 oct 2011
Din seria NATO Science Series E:
-
Preț: 374.84 lei -
Preț: 386.34 lei - 20%
Preț: 333.06 lei -
Preț: 408.17 lei - 18%
Preț: 1176.56 lei - 18%
Preț: 1764.96 lei - 18%
Preț: 1181.44 lei -
Preț: 368.86 lei -
Preț: 393.75 lei - 18%
Preț: 1769.50 lei - 5%
Preț: 355.87 lei -
Preț: 391.71 lei - 18%
Preț: 1766.62 lei -
Preț: 412.56 lei -
Preț: 388.01 lei -
Preț: 387.28 lei - 18%
Preț: 2920.23 lei -
Preț: 377.01 lei - 5%
Preț: 376.18 lei - 18%
Preț: 1186.30 lei - 18%
Preț: 1186.68 lei - 18%
Preț: 1186.41 lei - 5%
Preț: 3393.87 lei - 18%
Preț: 1768.29 lei - 5%
Preț: 367.92 lei - 18%
Preț: 1180.06 lei -
Preț: 382.33 lei -
Preț: 384.16 lei - 18%
Preț: 2392.01 lei - 5%
Preț: 1379.35 lei -
Preț: 384.40 lei - 5%
Preț: 2058.97 lei - 18%
Preț: 1772.54 lei -
Preț: 388.20 lei -
Preț: 398.39 lei -
Preț: 402.06 lei - 20%
Preț: 331.65 lei - 18%
Preț: 913.16 lei - 18%
Preț: 1182.47 lei - 24%
Preț: 1139.05 lei - 20%
Preț: 1838.25 lei - 18%
Preț: 1186.11 lei
Preț: 392.27 lei
Puncte Express: 588
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 08-22 iulie
Livrare prin curier în România Termenul estimat este afișat lângă disponibilitate.
Transport gratuit de la 400.00 lei Plată online sau ramburs, în funcție de opțiunile comenzii.
Retur gratuit în 14 zile Comandă securizată și suport în română.
Specificații
ISBN-13: 9789400968448
ISBN-10: 9400968442
Pagini: 636
Ilustrații: 636 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 33 mm
Greutate: 0.88 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1983
Editura: SPRINGER NETHERLANDS
Colecția Springer
Seria NATO Science Series E:
Locul publicării:Dordrecht, Netherlands
ISBN-10: 9400968442
Pagini: 636
Ilustrații: 636 p.
Dimensiuni: 155 x 235 x 33 mm
Greutate: 0.88 kg
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1983
Editura: SPRINGER NETHERLANDS
Colecția Springer
Seria NATO Science Series E:
Locul publicării:Dordrecht, Netherlands
Public țintă
ResearchCuprins
Diffusion in Silicon.- Thermal Oxidation: Kinetics, Charges, Physical Models, and Interaction with Other Processes in VLSI Devices.- The Use of Chlorinated Oxides and Intrinsic Gettering Techniques for VLSI Processing.- Ion Implantation.- Beam Annealing of Ion Implanted Silicon.- Materials Characterization.- Modeling of Polycrystalline Silicon Structures for Integrated Circuit Fabrication Processes.- Two-Dimensional Process Simulation — Supra.- Numerical Simulation of Impurity Redistribution Near Mask Edges.- Optical and Deep UV Lithography.- Wafer Topography Simulation.- Analyses of Nonplanar Devices.- Two Dimensional MOS-Transistor Modeling.- Fielday — Finite Element Device Analyses.
Recenzii
`...this book is an extremely valuable collection on the crucial issues in numerical modeling of VLSI fabrication processes and devices, which will be useful to a large number of readers with diverse backgrounds.' American Scientist, 73 (1983)