"Procesos microelectrónicos para la fabricación de VLSI" es una guía completa y autorizada que profundiza en los principios fundamentales y las técnicas avanzadas utilizadas en la fabricación de circuitos integrados a muy gran escala (VLSI). El libro, que abarca un amplio abanico de temas, comienza con una introducción en profundidad a la tecnología de semiconductores de silicio, que incluye una visión general de los materiales semiconductores, la estructura cristalina del silicio, los semiconductores intrínsecos y extrínsecos y las complejidades del dopaje y la concentración de portadores. El libro examina ampliamente los métodos de deposición epitaxial, como la deposición química en fase vapor (CVD), la epitaxia de haces moleculares (MBE) y la epitaxia selectiva. La implantación y difusión de iones, procesos fundamentales para la fabricación de dispositivos semiconductores, también se analizan meticulosamente, con información sobre los procesos de implantación de iones.