Cantitate/Preț
Produs
Total produse
Vezi coșul
Microwave Plasma Sources and Methods in Processing Technology de Bardos

Microwave Plasma Sources and Methods in Processing Technology

Autor Bardos
en Limba Engleză Hardback – 3 mar 2022

În cadrul programelor academice de fizică aplicată și inginerie electronică, studiul plasmei generate prin microunde ocupă un loc central datorită versatilității sale în procesarea materialelor. Găsim în lucrarea Microwave Plasma Sources and Methods in Processing Technology, publicată de Wiley, un ghid riguros care face trecerea de la principiile fundamentale ale propagării undelor în ghiduri de undă la implementări industriale complexe. Ne-a atras atenția modul în care autorul Bardos reușește să sintetizeze fizica descărcărilor în gaze — incluzând coeficienții Townsend și curba Paschen — cu aplicații directe în tehnologii de vârf.

Textul se distinge prin abordarea practică a sistemelor de putere și a componentelor de microunde, oferind claritate asupra modului în care plasma interacționează cu suprafețele solide și gazele. Considerăm că prezența celor peste 130 de diagrame color este esențială pentru înțelegerea fenomenelor de oxidare, pulverizare și activare a suprafețelor. Cartea explorează, de asemenea, nișe de cercetare recente, cum ar fi plasmele în lichide sau interacțiunile cu flăcările de combustie, oferind o perspectivă extinsă asupra domeniului.

Această lucrare completează perspectiva oferită de Microwave Excited Plasmas de M. Moisan, adăugând o metodologie aplicată mai pronunțată în zona tehnologiilor de procesare la presiuni diferite, față de abordarea axată pe chimie analitică și spectroscopie a titlului menționat. De asemenea, spre deosebire de Compact Plasma and Focused Ion Beams, care se concentrează pe depășirea limitelor geometrice ale ghidurilor de undă, volumul de față oferă o bază mult mai largă pentru proiectarea sistemelor de procesare industrială la scară largă.

Citește tot Restrânge

Preț: 85752 lei

Preț vechi: 94232 lei
-9%

Puncte Express: 1286

Carte tipărită la comandă

Livrare economică 21 mai-04 iunie

 Adaugă în coș

Wish list
Gift list
Am citit!
Adaugă în listă

Specificații

ISBN-13: 9781119826873
ISBN-10: 111982687X
Pagini: 208
Dimensiuni: 152 x 229 x 13 mm
Greutate: 0.45 kg
Editura: Wiley
Locul publicării:Hoboken, United States

De ce să citești această carte

Recomandăm această carte inginerilor și cercetătorilor care au nevoie de o fundamentare solidă în utilizarea plasmei pentru procesarea materialelor. Cititorul câștigă o înțelegere clară a sistemelor de microunde, de la generatoare la aplicatori, și primește soluții concrete pentru procese precum depunerea chimică din fază de vapori (CVD) sau gravarea materialelor. Este un instrument de referință pentru optimizarea proceselor industriale care necesită precizie și eficiență energetică.

Despre autor

Echipa de autori, condusă de Bardos, este formată din cercetători premiați, cu o vastă experiență în domeniul fizicii plasmei și al ingineriei microundelor. Contribuția lor în literatura de specialitate este recunoscută prin capacitatea de a traduce fenomenele fizice complexe în soluții tehnologice viabile. Expertiza lor acoperă întreg spectrul cercetării descărcărilor în gaz la diverse presiuni, fiind figuri de referință în comunitatea științifică internațională pentru inovațiile aduse în procesarea materialelor prin tehnologii non-termice.

Cuprins

Foreword from the Authors ix 1 Basic Principles and Components in the Microwave Techniques and Power Systems 1 1.1 History in Brief - From Alternating Current to Electromagnetic Waves and to Microwaves 1 1.2 Microwave Generators 3 1.3 Waveguides and Electromagnetic Modes in Wave Propagation 5 1.3.1 The Cut-off Frequency and the Wavelength in Waveguides 7 1.3.2 Waveguides Filled by Dielectrics 9 1.3.3 Wave Impedance and Standing Waves in Waveguides 10 1.3.4 Coaxial Transmission Lines 12 1.3.5 Microwave Resonators 14 1.4 Waveguide Power Lines 14 1.4.1 Magnetron Tube Microwave Generator 16 1.4.2 Microwave Insulators 16 1.4.3 Impedance Tuners 17 1.4.4 Directional Couplers 19 1.4.5 Passive Waveguide Components - Bends, Flanges, Vacuum Windows 20 1.4.6 Tapered Waveguides and Waveguide Transformers 22 1.4.7 Power Loads and Load Tuners 23 1.4.8 Waveguide Phase Shifters 25 1.4.9 Waveguide Shorting Plungers 25 1.4.10 Coupling from Rectangular to Circular Waveguide: Resonant Cavities for Generation of Plasma 26 1.5 Microwave Oven - A Most Common Microwave Power Device 28 References 33 2 Gas Discharge Plasmas 37 2.1 Basic Understanding of the Gas Discharge Plasmas 37 2.2 Generation of the Plasma, Townsend Coefficients, Paschen Curve 40 2.3 Generation of the Plasma by AC Power, Plasma Frequency, Cut-off Density 43 2.4 Space-charge Sheaths at Different Frequencies of the Incident Power 50 2.5 Classification of Gas Discharge Plasmas, Effects of Gas Pressure, Microwave Generation of Plasmas 55 2.5.1 Classification of Gas Discharge Plasmas 55 2.5.2 Effects of the Gas Pressure on Particle Collisions in the Plasma 58 2.5.3 Microwave Generation of Plasmas 61 References 64 3 Interactions of Plasmas with Solids and Gases 67 3.1 Plasma Processing, PVD, and PE CVD 67 3.2 Sputtering, Evaporation, Dry Etching, Cleaning, and Oxidation of Surfaces 72 3.3 Particle Transport in Plasma Processing and Effects of Gas Pressure 75 3.3.1 Movements of Neutral Particles 76 3.3.2 Movements of Charged Particles 77 3.3 Effect of the Gas Pressure on the Plasma Processing 79 3.4 Afterglow and Decaying Plasma Processing 81 References 83 4 Microwave Plasma Systems for Plasma Processing at Reduced Pressures 85 4.1 Waveguide-Generated Isotropic and Magnetoactive Microwave Plasmas 85 4.1.1 Waveguide-Generated Isotropic Microwave Oxygen Plasma for Silicon Oxidation 87 4.1.2 ECR and Higher Induction Magnetized Plasma Systems for Silicon Oxidation 93 4.2 PE CVD of Silicon Nitride Films in the Far Afterglow 105 4.3 Microwave Plasma Jets for PE CVD of Films 111 4.3.1 Deposition of Carbon Nitride Films 115 4.3.2 Surfajet Plasma Parameters and an Arrangement for Expanding the Plasma Diameter 119 4.4 Hybrid Microwave Plasma System with Magnetized Hollow Cathode 122 References 129 5 Microwave Plasma Systems at Atmospheric and Higher Pressures 135 5.1 Features of the Atmospheric Plasma and Cold Atmospheric Plasma (CAP) Sources 136 5.2 Atmospheric Microwave Plasma Sources Assisted by Hollow Cathodes 140 5.2.1 Applications of the H-HEAD Plasma Source in Surface Treatments 144 5.3 Microwave Treatment of Diesel Exhaust 151 5.4 Microwave Plasma in Liquids 154 5.5 Microwave Plasma Interactions with Flames 157 5.6 Microwave Plasmas at Very High Pressures 161 References 162 6 New Applications and Trends in the Microwave Plasmas 169 References 176 7 Appendices 181 7.1 List of Symbols and Abbreviations 181 7.2 Constants and Numbers 188 Index 189

Descriere

A practical introduction to microwave plasma for processing applications at a variety of pressures

In Microwave Plasma Sources and Methods in Processing Technology, an award-winning team of researchers delivers a comprehensive introduction to microwaves and microwave-generated plasmas. Ideal for anyone interested in non-thermal gas discharge plasmas and their applications, the book includes detailed descriptions, explanations, and practical guidance for the study and use of microwave power, microwave components, plasma, and plasma generation.

This reference includes over 130 full-color diagrams to illustrate the concepts discussed within. The distinguished authors discuss the plasmas generated at different levels of power, as well as their applications at reduced, atmospheric and higher pressures. They also describe plasmas inside liquids and plasma interactions with combustion flames.

Microwave Plasma Sources and Methods in Processing Technology concludes with an incisive exploration of new trends in the study and application of microwave discharges, offering promising new areas of study.

The book also includes:

  • A thorough introduction to the basic principles of microwave techniques and power systems, including a history of the technology, microwave generators, waveguides, and wave propagation
  • A comprehensive exploration of the fundamentals of the physics of gas discharge plasmas, including plasma generation, Townsend coefficients, and the Paschen curve
  • Practical discussions of the interaction between plasmas and solid surfaces and gases, including PVD, PE CVD, oxidation, sputtering, evaporation, dry etching, surface activation, and cleaning
  • In-depth examinations of microwave plasma systems for plasma processing at varied parameters

Perfect for researchers and engineers in the microwave community, as well as those who work with plasma applications, Microwave Plasma Sources and Methods in Processing Technology will also earn a place in the libraries of graduate and PhD students studying engineering physics, microwave engineering, and plasmas.

Notă biografică

Ladislav Bárdoa is Professor at the Department of Electrical Engineering at Uppsala University. He received his PhD from the Institute of Plasma Physics at the Czech Academy of Sciences in 1978 and DrSc from the Charles University Prague in 1995. He was awarded the Plasma Physics Innovation Prize 2019 by the European Physical Society. Hana Baránková is Professor at the Department of Electrical Engineering, Uppsala University. She received her PhD from the Institute of Radio Engineering and Electronics at the Czech Academy of Sciences in 1981. She was awarded the Plasma Physics Innovation Prize 2019 by the European Physical Society. She is Secretary of the Board of Directors at the Society of Vacuum Coaters in the US.