Ce travail demontre la faisabilite de deux procedes de polymerisation d'un precurseur gazeux dans un plasma RF basse pression et liquide depose sur un substrat active par DBD a pression atmospherique pour l'obtention de couches minces de polymere. L'etude porte sur la fonctionnalisation de substrats organiques par des fonctions ether, connues pour leurs proprietes d'anti-adhesion vis-a-vis des microorganismes biologiques. Le procede "voie seche" par plasma RF basse pression induit la fragmentation du precurseur gazeux de facon controlee. Les depots formes possedent un taux de retention de la fonction C-O compris entre 70 et 80% suivant le monomere utilise. Le procede "voie humide" permet d'activer, par DBD a pression atmospherique, des substrats polymeres, a densite surfacique d'energie controlee. Le precurseur est ensuite depose en post-decharge sur le substrat pretraite par Pulverisation ElectroHydroDynamique en mode cone-jet a flux de matiere controle. Cette etude a permis de confirmer que la polymerisation est initiee par les radicaux generes en surface du substrat formant des depots de quelques um d'epaisseur."