Cantitate/Preț
Produs

Deposition 2e

Autor Paunovic, Schlesinger
en Limba Engleză Hardback – 21 iul 2006

Considerăm că Fundamentals of Electrochemical Deposition reprezintă un reper fundamental pentru literatura tehnică, fiind scrisă de Milan Paunovic, un expert cu o carieră începută în 1961 și consolidată în centre de cercetare precum IBM T. J. Watson și Intel, alături de Mordechay Schlesinger. Această sinergie între rigoarea academică și pragmatismul industrial fundamentează o lucrare care depășește simpla teorie, oferind soluții concrete pentru provocările actuale din ingineria materialelor. Această a doua ediție extinde substanțial aria de acoperire a primei versiuni, integrând progresele tehnologice recente din domeniul microelectronicii și al dispozitivelor medicale. Autorii tratează meticulos fenomenele la interfață, cinetica electrodepunerii și depunerea autocatalitică (electroless), adăugând secțiuni esențiale despre caracterizarea in situ și utilizarea microscopiei prin scanare cu efect de tunel. Merită menționat că structura textului este optimizată pentru învățare, fiecare capitol fiind susținut de probleme-exemplu care clarifică mecanismele complexe ale formării straturilor subțiri și ale nanoclusterilor. În peisajul publicațiilor de specialitate, acest volum acoperă aceeași arie tematică precum Theory and Practice of Metal Electrodeposition de Yuliy D. Gamburg, dar cu o abordare mult mai ancorată în aplicațiile industriale moderne, precum fabricarea hardware-ului computerizat și a componentelor aerospațiale. În contextul operei autorului, lucrarea servește drept bază teoretică pentru Modern Electroplating 5e, unde Milan Paunovic detaliază aspectele practice ale galvanizării. Dacă Modern Electroplating 5e este resursa definitivă pentru procese, Fundamentals of Electrochemical Deposition este instrumentul indispensabil pentru înțelegerea principiilor fizico-chimice care guvernează aceste procese.

Citește tot Restrânge

Preț: 100333 lei

Preț vechi: 110256 lei
-9%

Puncte Express: 1505

Carte tipărită la comandă

Livrare economică 26 septembrie-10 octombrie

Livrare prin curier în România Termenul estimat este afișat lângă disponibilitate.
Transport gratuit pentru acest produs Plată online sau ramburs, în funcție de opțiunile comenzii.
Retur gratuit în 14 zile Comandă securizată și suport în română.

Specificații

ISBN-13: 9780471712213
ISBN-10: 0471712213
Pagini: 388
Dimensiuni: 161 x 240 x 25 mm
Greutate: 0.75 kg
Ediția:2. Auflage
Editura: Wiley
Locul publicării:Hoboken, United States

Public țintă

Advanced undergraduate and graduate courses in materials science and chemical engineering.
Researchers and professionals in the field of electrodeposition. Researchers and practitioners in academic and national labs and private businesses.

De ce să citești această carte

Recomandăm această carte studenților de la inginerie chimică și cercetătorilor care au nevoie de o bază teoretică solidă în electrodepunere. Ediția a doua aduce la zi tehnologii critice pentru industria semiconductorilor și medicină, oferind nu doar teorie, ci și probleme practice rezolvate. Este un manual esențial pentru a înțelege cum se construiesc, la nivel atomic, tehnologiile viitorului.


Despre autor

Milan Paunovic, PhD, este o figură proeminentă în electrochimie, cu o carieră de peste patru decenii începută la University of Pennsylvania. Expertiza sa vastă a fost șlefuită în cadrul unor giganți tehnologici precum IBM T. J. Watson Research Center, Intel și Reynolds Metals. A contribuit semnificativ la literatura de specialitate, fiind coautor al volumului de referință Modern Electroplating 5e și editor pentru numeroase volume ale The Electrochemical Society. Deține șapte brevete de invenție și a publicat peste patruzeci de lucrări științifice, experiența sa industrială fiind reflectată direct în claritatea și aplicabilitatea textelor sale.


Descriere scurtă

Excellent teaching and resource material . . . it is concise, coherently structured, and easy to read . . . highly recommended for students, engineers, and researchers in all related fields." -Corrosion on the First Edition of Fundamentals of Electrochemical Deposition From computer hardware to automobiles, medical diagnostics to aerospace, electrochemical deposition plays a crucial role in an array of key industries. Fundamentals of Electrochemical Deposition, Second Edition is a comprehensive introduction to one of today's most exciting and rapidly evolving fields of practical knowledge. The most authoritative introduction to the field so far, the book presents detailed coverage of the full range of electrochemical deposition processes and technologies, including: * Metal-solution interphase * Charge transfer across an interphase * Formation of an equilibrium electrode potential * Nucleation and growth of thin films * Kinetics and mechanisms of electrodeposition * Electroless deposition * In situ characterization of deposition processes * Structure and properties of deposits * Multilayered and composite thin films * Interdiffusion in thin film * Applications in the semiconductor industry and the field of medicine This new edition updates the prior edition to address the new developments in the science and its applications, with new chapters on innovative applications of electrochemical deposition in semiconductor technology, magnetism and microelectronics, and medical instrumentation. Added coverage includes such topics as binding energy, nanoclusters, atomic force, and scanning tunneling microscopy.Example problems at the end of chapters and other features clarify and improve understanding of the material. Written by an author team with extensive experience in both industry and academe, this reference and text provides a well-rounded introduction to the field for students, as well as a means for professional chemists, engineers, and technicians to expand and sharpen their skills in using the technology.