Advances in X-Ray Analysis: Volume 33
Editat de Charles S. Barrett, John V. Gilfrich, Ting C. Huang, Ron Jenkinsen Limba Engleză Paperback – 2 iun 2012
Preț: 453.39 lei
Puncte Express: 680
Carte tipărită la comandă
Livrare economică 01-07 august
Livrare prin curier în România Termenul estimat este afișat lângă disponibilitate.
Transport gratuit pentru acest produs Plată online sau ramburs, în funcție de opțiunile comenzii.
Retur gratuit în 14 zile Comandă securizată și suport în română.
Specificații
ISBN-13: 9781461399988
ISBN-10: 146139998X
Pagini: 728
Ilustrații: XX, 704 p.
Dimensiuni: 157 x 244 x 38 mm
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1990
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Locul publicării:New York, NY, United States
ISBN-10: 146139998X
Pagini: 728
Ilustrații: XX, 704 p.
Dimensiuni: 157 x 244 x 38 mm
Ediția:Softcover reprint of the original 1st ed. 1990
Editura: Springer Us
Colecția Springer
Locul publicării:New York, NY, United States
Public țintă
ResearchCuprins
I. Characterization of Epitaxial Thin Films and Crystal Defects by X-Ray Diffraction.- II. XRD Characterization of Polycrystalline Thin Films.- III. X-Ray Spectrometric Characterization of Thin Films.- IV. Analysis of Digital Diffraction Data Including Rietveld.- V. X-Ray Stress Analysis.- VI. Determination of Crystallite Size and Strain.- VII. Phase Identification, Structural and Quantitative Analysis by Diffraction.- VIII. X-Ray Spectrometry Data Analysis.- IX. XRF Instrumentation.- X. XRF Techniques for Hazardous Wastes and Other Applications.- Author Index.