Dieses Buch untersucht das Grundprinzip des Designs von Vorl ufermolek len f r CVD Prozesse. Der Effekt von molekularen Eigenschaften dieser Molek le auf den CVD Prozess wird sowohl experimentell als auch theoretisch erforscht. Eine neuartige Klasse von Liganden und resultierenden Komplexen wird als Beispiel f r ma geschneiderte Vorl ufermolek le f r CVD Prozesse demonstriert. Haupteigenschaften wie z.B. thermische Zersetzung und Fl chtigkeit k nnen unabh ngig eingestellt werden und auf den indiviuellen CVD Prozess abgestimmt werden. This book examines the rationale of precursor design for a CVD (Chemical Vapor Deposition) process. The effect of molecular properties on the CVD process outcome is investigated experimentally and computationally. A novel class of ligands and resulting complexes is demonstrated as an example of tailormade precursors for CVD processes. Key properties such as thermal decomposition and volatility are shown to be independently tunable and can be adjusted to the individual process needs