Cantitate/Preț
Produs

Gallium Nitride: Structure, Thermal Properties and Applications

Editat de Kiera Olivia Peak
en Limba Engleză Hardback – sep 2014

În cadrul programelor avansate de studiu în chimia materialelor și fizica semiconductorilor, înțelegerea compușilor din familia III-V este esențială pentru dezvoltarea noilor tehnologii optoelectronice. Volumul Gallium Nitride, coordonat de Kiera Olivia Peak, se plasează în centrul acestor preocupări, oferind o analiză tehnică a proprietăților structurale și termice ale nitrurii de galiu. Considerăm că această lucrare este relevantă în special pentru cercetătorii care urmăresc tranziția de la materialele bulk la nanostructuri, unde efectele de confinare cuantică și suprafața specifică ridicată modifică radical performanța dispozitivelor.

Structura volumului este riguros organizată pe piloni tematici: de la mecanismele de degradare sub acțiunea radiațiilor, până la sinteza și proprietățile fizice ale GaN de dimensiuni reduse. Subliniem importanța secțiunilor dedicate fiabilității tranzistoarelor HEMT (High Electron Mobility Transistors) supuse stresului electric, un subiect critic pentru industria electronică de putere. Cartea acoperă o arie similară cu GaN and Related Materials de Stephen J. Pearton, însă Gallium Nitride aduce o perspectivă mai axată pe modelarea prin dinamică moleculară și aplicații emergente în spintronică, oferind date recente despre interacțiunea dintre nanoparticulele de GaN și silice.

Prin parcurgerea capitolelor semnate de experți de la instituții de renume, precum University of Florida, descoperim o progresie logică de la fundamentele structurale la provocările practice de implementare în dispozitive ce operează în regiunile albastru și ultraviolet ale spectrului. Este o resursă care completează literatura de specialitate prin accentul pus pe comportamentul materialului în medii dure și la scară nanometrică.

Citește tot Restrânge

Preț: 139887 lei

Preț vechi: 200588 lei
-30%

Puncte Express: 2098

Carte disponibilă

Livrare economică 06-20 iunie


Specificații

ISBN-13: 9781633213876
ISBN-10: 1633213870
Pagini: 289
Dimensiuni: 178 x 254 x 22 mm
Greutate: 0.71 kg
Editura: Nova Science Publishers Inc
Colecția Nova Science Publishers, Inc (US)
Locul publicării:United States

De ce să citești această carte

Această monografie tehnică este esențială pentru inginerii și cercetătorii care lucrează cu semiconductori cu bandă interzisă largă. Cititorul câștigă o înțelegere profundă a modului în care nanostructurarea și radiațiile influențează performanța GaN în LED-uri și spintronică. Recomandăm volumul pentru rigoarea cu care tratează stabilitatea termică și dielectrică, oferind soluții concrete pentru îmbunătățirea fiabilității dispozitivelor electronice moderne.


Descriere

Gallium nitride (GaN), a member of the family of III-V semiconductor compounds, has been investigated intensively and have found extensive applications. Recent development has suggested that GaN may be used as an excellent host material for light-emitting devices (LEDs) that operate in the blue and ultraviolet region, due to its wide and direct band gap. Nano-materials often present novel properties that are different from the corresponding bulk materials due to their unique structures, high specific surface area and quantum confinement effects. This book discusses several topics on the structure, thermal properties and applications of GaN. Some of these topics include the effects of radiation damage in GaN and and related materials; low-dimensional GaN; structural and dielectric properties of the GaN and silica nanoparticles investigated by molecular dynamics; and GaN bulk and nanostructures for spintronic application.

Cuprins

PrefaceEffects of Radiation Damage in GaN and Related Materials(S. J. Pearton, Fan Ren, Y.H. Hwang, Shun Li, Yueh-Ling Hsieh, Alexander Y. Polyakov, Jihyun Kim, Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, Gainesville, FL, USA, and others)Mechanisms Determining Reliability in Electrically Stressed AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors(F. Ren Y.-H. Hwang, Shun Li, Yueh-Ling Hsieh, P. G. Whiting, M. R. Holzworth, S. J. Pearton, K. S. Jones, Department of Chemical Engineering, University of Florida, Gainesville, Florida, USA, and others)Low-Dimensional GaN: Structure, Synthesis, and Physical Properties (Dongwei Xu, Haiying He, Ravindra Pandey, Department of Physics, Michigan technological University, Houghton, MI, USA, and others)For Complete Table of Contents, please visit our website athttps://www.novapublishers.com/catalog/product_info.php?products_id=50485